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光學玻璃晶體的化學拋光是利用氫氟酸破壞玻璃表面，使原有的表層硅氧膜破壞，生產新的表面硅氧膜，使得玻璃得到很高的透過率且表面很光潔。目前，平板玻璃的拋光大多用化學拋光和機械拋光相結合的方法，也即化學機械拋光。

采用化學侵蝕拋光玻璃時，除使用氫氟酸外，還要加入能使侵蝕生成物（硅氟化物）溶解的添加物。一般采用硫酸，硫酸具有酸性強，沸點高、不易揮發、室溫下比較穩定等特點，故通常將硫酸加入氫氟酸中配成拋光液。另外，因氫氟酸易揮發。侵蝕性強，故需要在密閉條件下進行拋光，同時要對拋光過程中產生的廢氣、廢水進行嚴格的處理。

影響化學拋光的因素如下：

1、玻璃的成分 一般情況下鈉鈣硅玻璃拋光比較困難，效果較差，含鉛玻璃化學拋光效果較好；

2、拋光液的成分  特別是拋光液中氫氟酸和硫酸的比例構成，要根據玻璃的成分進行調整。一般的鉛晶質玻璃配方中：7%~10.5%的氫氟酸和58%~65%的硫酸。對鈉鈣硅玻璃來說，水、氫氟酸、硫酸的體積比比例為1：（1.62~2）：（2.76~3）。

3、拋光溫度 溫度過低則反應慢，溫度過高反應劇烈，一般以40~50℃為宜。

4、處理時間 處理時間短，拋光作用不完全，處理時間長則玻璃表面會有鹽類沉積物，因此具體的拋光時間，應依據拋光液的培比、處理溫度等來決定。一般情況下采用短時間多次拋光的方法來處理，每次處理時間在6~15s左右，處理次數不超過10次，若處理次數過多易在表面形成波紋等缺陷，每次酸處理完后都應將玻璃表面用水沖洗以去掉沉淀的鹽類。